Учёные Нижегородского государственного университета имени Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, который используется при создании полировальных суспензий для производства микросхем. Разработка позволяет контролировать размер, форму и однородность…
В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов
Это краткое изложение. Полный текст материала доступен на сайте источника.