В Нижегородском государственном университете имени Н. И. Лобачевского сообщили, что ученые вуза разработали и запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния (SiO₂). Он применяется в микроэлектронике. Метод позволяет контролировать размер и форму частиц, добиваться их…