Внедрение оборудования для литографии High NA EUV для крупномасштабного производства планируется к 2028 и с 2030 года соответственно
TSMC и Samsung закупят новые установки для EUV-литографии от ASML на фоне роста спроса на ИИ
Читать оригинал на Overclockers →
Это краткое изложение. Полный текст материала доступен на сайте источника.