Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое оборудование можно использовать для выпуска 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть установок…
Китай запасся сотнями литографов ASML — их хватит для массового выпуска 7-нм ИИ-ускорителей на годы вперёд
Это краткое изложение. Полный текст материала доступен на сайте источника.