Китайская компания Landau Flint впервые публично показала прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV), предназначенного для высокоточной фотолитографии при производстве микросхем. Разработку представили на 26-й Китайской международной промышленной выставке в Шанхае. По…
Китай впервые показал прототип собственного источника EUV-излучения для передовой литографии
Это краткое изложение. Полный текст материала доступен на сайте источника.