Китайская академия наук анонсировала новую архитектуру транзисторов с круговым затвором (GAA), которая достигла коэффициента включения/выключения более 500 000 раз на установке для DUV-литографии, что теоретически позволяет достичь производительности, эквивалентной 3 нм.
Китай приблизился к созданию 3-нм микросхем на старых DUV-литографах
Это краткое изложение. Полный текст материала доступен на сайте источника.